| 4 cuotas de $1.400,00 sin interés | CFT: 0,00% | TEA: 0,00% | Total $5.600,00 |
Manta de silicona antiestática ESD de 200 × 280mm. Resistente al calor, superficie disipativa, ideal para banco de celulares y base de microscopio.
La Kaisi S-110 es la manta antiestática de entrada de la línea S: 200 × 280mm de superficie de trabajo en silicona disipativa ESD. Compacta, liviana y fácil de limpiar, pensada para el técnico que trabaja celulares en un espacio reducido o que necesita una manta exclusiva para la base del microscopio.
La silicona antiestática disipa las cargas electrostáticas que se acumulan en la superficie de trabajo, protegiendo silicio sensible: placas, chips IC, módulos, baterías. Y al ser resistente al calor, podés apoyar el cautín caliente o trabajar con aire caliente directo sobre ella sin que se deforme ni se queme.
| Marca / Modelo | Kaisi S-110 |
| Dimensiones | 200 × 280mm (20 × 28cm) |
| Material | Silicona antiestática |
| Color | Azul |
| Resistividad superficial | ~10⁶ Ω, disipativa ESD |
| Resistencia térmica | Alta, soporta calor directo de cautín y aire caliente |
| Terminal GND | No, ESD pasiva sin conexión a tierra |
| Usos principales | Banco de celulares, base de microscopio, estación de soldadura |
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